最為常見的鋁氧化方法，華科鋁業(yè)在研究直流硬質(zhì)氧化時(shí)發(fā)現(xiàn)，鋁氧化成膜的質(zhì)量是與氧化的時(shí)間息息相關(guān)的。因此，廣州鋁鎂鈦金屬表面技術(shù)有限公司采用延遲氧化時(shí)間及各種參數(shù)來研究氧化膜的參數(shù)。通過研究得出氧化時(shí)間為60min時(shí)，硬質(zhì)氧化生成的膜層厚度最厚處為40納米，超過70min時(shí)，鋁氧化生成的膜層厚度最厚處為60納米，延長(zhǎng)氧化時(shí)間，雖然可以提高鋁氧化膜的厚度但氧化時(shí)間過長(zhǎng)，膜的溶解速度大于生成速度，膜厚增長(zhǎng)到一定程度后又變薄，且疏松多孔，其中，影響因素還有電流密度。
提高電流密度增大膜厚時(shí)，鋁氧化開始時(shí)電流密度0.5安氧化，不僅可以加快鋁氧化膜的成膜速度，而且能夠增加氧化膜的厚度與硬度。后來將電流密度提高到4安進(jìn)行，鋁氧化但電流密度過大，因氧化過程中會(huì)產(chǎn)生大量的熱量，會(huì)使試件產(chǎn)生過熱現(xiàn)象，造成試件局部過熱，氧化膜因而發(fā)生溶解，使生成的膜不均勻，疏松多孔，甚至燒傷試件。因此，在直流陽極鋁氧化時(shí)，通過提高電流密度的方式不能使氧化膜的厚度達(dá)到要求。
